二值形态学腐蚀

    把结构元素B平移a后得到Ba,若Ba包含于X,我们记下这个a点,所有满足上述条件的a点组成的集合称做XB腐蚀(Erosion)的结果。

    用公式表示为:E(X)={a| Ba  X}=X  B,如图1所示。 

1     腐蚀的示意图

1X是被处理的对象,B是结构元素。不难知道,对于任意一个在阴影部分的点aBa 包含于X,所以XB腐蚀的结果就是那个阴影部分。阴影部分在X的范围之内,且比X小,就象X被剥掉了一层似的,这就是为什么叫腐蚀的原因。

    值得注意的是,上面的B是对称的,即B的对称集Bv=B,所以XB腐蚀的结果和X Bv腐蚀的结果是一样的。如果B不是对称的,让我们看看图2,就会发现XB腐蚀的结果和X Bv腐蚀的结果不同。

2     结构元素非对称时,腐蚀的结果不同

    图1和图2都是示意图,让我们来看看实际上是怎样进行腐蚀运算的。

    在图3中,左边是被处理的图象X(二值图象,我们针对的是黑点),中间是结构元素B,那个标有origin的点是中心点,即当前处理元素的位置,我们在介绍模板操作时也有过类似的概念。腐蚀的方法是,拿B的中心点和X上的点一个一个地对比,如果B上的所有点都在X的范围内,则该点保留,否则将该点去掉;右边是腐蚀后的结果。可以看出,它仍在原来X的范围内,且比X包含的点要少,就象X被腐蚀掉了一层。

                          图3  腐蚀运算

  下面是腐蚀运算的C++代码

/*
* my_erode.cpp
* 对二值图像进行腐蚀
* Created on: 2011-10-8
* Author: LiChanghai
*/
// 假定背景为黑色---0,目标为白色---255
// 结构元素---m×n的矩形,m,n为奇数
// 结构元素的中心作为原点
#include <string.h>
#define M 3
#define N 3
#define M1 (M-1)/2
#define N1 (N-1)/2
bool my_erode(unsigned char *pImage, int width, int height, int biBitCount)
{
//定义相关变量
int i, j, i2, j2;
bool mark=0;
//定义结构元素
unsigned char element[M][N];
memset(element,255,sizeof(element));

//定义变量,计算图像每行像素所占的字节数(必须是4的倍数)
int lineByte=(width * biBitCount/8+3)/4*4;

//申请新的位图数据存储空间, 并拷贝原图像
unsigned char *pImage2;
pImage2=new unsigned char[lineByte*height];
memcpy(pImage2, pImage, lineByte*height);

//现在对pImage2进行判断,对pImage进行处理
//为防止访问越界,最外面的一圈像素不作处理
for(i=M1; i<height-M+1; i++)
for(j=N1; j<width-N+1; j++)
{
if(*(pImage2+i*lineByte+j)==255) //只对目标像素处理
{
mark=0;
for(i2=-M1; i2<M1+1; i2++)
for(j2=-N1; j2<N1+1; j2++)
if(*(pImage2+(i+i2)*lineByte+(j+j2)) != element[i2+M1][j2+N1])
mark=1; //如果结构元素有一个点不在目标区域内,则标记
//如果该目标像素被标记,则将该像素腐蚀掉
if(mark==1)
*(pImage+i*lineByte+j)=0;
}
}
return 1;
}

     该程序在Eclipse上调试通过,结果正确。


原文地址:https://www.cnblogs.com/haigege/p/2202178.html