文献笔记（三）

电阻阵列动态红外景像产生器

1. 电阻阵列具有其他红外景像产生技术所不具有的特点 , 如低功耗 、大温度范围 、高分辨率 、高占空比等 , 适合于各种红外目标的模拟
2. (1)在硅基片中制备电子电路 (晶体管和互联金属);(2)淀积牺牲层 ;(3)淀积氮化硅 -氮化钛 -氮化硅薄膜 ;(4)去掉牺牲层 , 形成悬空的微桥

红外微辐射元的研制

1. 氮氧化硅薄膜作为应力平衡层是微桥结构形成所不可缺少的关键工艺之一 .由于 PECVD 生长的氮化硅薄膜通常有较大的内应力 , 所以需要与其应力性质相反的氮氧化硅薄膜来平衡其应力 .实验证明 , 如果没有氮化硅薄膜的应力平衡作用 , 在去掉牺牲层后微桥会翘曲变形或在应力集中的边缘处出现断裂 .这样 , 器件制作就难以成功。

201711484795.8一种耐高温电容器薄膜及其电容器

1. 本发明一种耐高温电容器薄膜及其电容器，旨在提供一种耐高温、介质损耗因子低、耐压性能好、轻型化的耐高温电容器薄膜及其电容器。此种耐高温电容器薄膜包括聚-4-甲基-1-戊烯薄膜，是在聚-4-甲基-1-戊烯薄膜的至少一个面上真空蒸镀纳米级的Al或Zn/Al镀层；
2. 聚-4-甲基-1-戊烯薄膜运行温度可以达到140～ 160℃，耐温性上不逊于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜；在本发明中金属层为真空蒸镀在电容器薄膜上，因此电容器也拥有金属化电容器的自愈性。
3. 本发明所述的耐高温电容器薄膜，包括聚-4-甲基-1-戊烯薄膜，于聚-4-甲基-1-戊烯薄膜的至少一个面上真空蒸镀纳米级的Al或Zn/Al镀层。
4. 作为本发明的进一步改进，聚-4-甲基-1-戊烯薄膜中添加增塑剂、抗氧化剂、热稳定剂中的任意一种或其结合。
5. 可以看到此发明的耐高温薄膜的抗氧化能力有限，需要添加抗氧化剂。

201410322625.X耐高温、抗氧化的低红外发射率复合涂层及其制备方法

1. 本发明属于功能涂层材料及其制备技术领域，尤其涉及一种可用于合金表面的耐高温低红发射率复合涂层及其制备方法；
2. 本发明公开了一种耐高温、抗氧化的低红外发射率复合涂层，其为多功能层叠加结构，由内往外依次包括氧化阻隔层、低发射率功能层以及保护膜；
3. 其中，氧化阻隔层为NiCrAlY复合薄膜，低发射率功能层为Pt薄膜，保护膜为MgO薄膜；

201410075409.X一种耐高温抗氧化金属化薄膜及其制备方法

1. 本发明涉及电容器制造领域，特别是一种耐高温抗氧化金属化薄膜；

2. 一种耐高温抗氧化金属化薄膜，由下列重量份（公斤）的原料制成：等规聚丙烯200、聚乳酸12、桐油3、硅酸钠1、四丁基溴化铵1、氧化钇1、三氯乙基磷酸酯2、甘油松香酯