场效应管

一、场效应管介绍

场效应管全称是金属-氧化物半导体场效应晶体管,简称金氧半场效应晶体管,英文全称是Metal Oxide Semicondutor Field Effect Transistor,取其英文全称大写首字母,简称MOS或MOSFET。它是电压控制电流的元器件(即利用栅极电压来控制漏极电流),导电情况取决于栅极电压的高低。具有输入电阻高(10^8~10^9Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点。它的漏极源极静态伏安特性以栅极G-源极S之间的电压Ugs(或Vgs)为参考变量,漏极D-源极S之间的电流Ids与栅极G-源极S之间的电压Ugs(或Vgs)之间的关系由跨导Gm 决定。如下图所示。

二、场效应管内部结构(以N沟道增强型场效应管为例)

用一块P型硅半导体材料(有大量带正电空穴)作衬底,在其面上扩散了两个N型区(有大量带负电自由电子),再在上面覆盖一层二氧化硅(SiO2)绝缘层,最后在N区上方用腐蚀的方法做成两个孔,用金属化的方法分别在绝缘层上及两个孔内做成三个电极:栅极G、源极S及漏极D,三者之间互相绝缘。如下图所示。

三、场效应管种类

(1)、构造工艺

结型场效应管(全称英文是 Junction Field Effect Transistor,简称JFET。)、绝缘栅场效应管(MOS管或MOSFET管)

(2) 、导电方式

分耗尽型(即栅极电压为零时,漏极有较大电流。)与增强型(即当栅极电压为零时,漏极D电流也为零,在加一定栅极电压之后,漏极才有漏极电流。),结型场效应管均为耗尽型(即栅极电压为零时,漏极有较大电流。),绝缘栅型场效应管既有耗尽型(即栅极电压为零时,漏极有较大电流。),也有增强型(即当栅极电压为零时,漏极电流也为零,在加一定栅极电压之后,漏极才有漏极电流。)。

(3)、沟道材料型

N沟道、P沟道,其中N是负极的意思(代表英文中Negative),N型半导体在高纯度硅中加入磷取代一些硅原子,在电压刺激下产生自由电子(带负电)导电,而P是正极的意思(代表英文中Positive)是加入硼取代硅,产生大量空穴(带正电)。)。

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四、场效应管工作原理(以N沟道增强型场效应管为例)

1、场效应管工作原理(以N沟道增强型场效应管为例)概括

要使N沟道NPN增强型场效应管正常工作,需在栅极G-源极S之间加正电压Vgs(或Ugs)及在漏极D-源极S之间加正电压Vds(或Uds),则产生流向漏极的正向工作电流Id。改变栅极G-源极S之间正电压Vgs(或Ugs)的电压,可控制流向漏极的工作电流Id。 如下图所示。

2、场效应管工作原理(以N沟道增强型场效应管为例)详细分析

(1)、当不给栅极G-源极S之间加电压(即Vgs=0),漏极D-源极S之间有一个PN结,带负电的电子从源极S流向漏极D,但漏极D-源极S之间有一个阻碍,就是P型硅半导体材料,带有大量带正电的空穴,大部分流过来的带负电的电子被带正电的空穴中和掉,且漏极D与衬底之间的PN结处于反方向,因此漏极D-源极S之间不能导电,如下图所示。

(2)、如果在栅极G-源极S之间加一电压Vgs(或Ugs),此时栅极G与衬底可看做电容器的两个极板,绝缘层和栅极G的界面上感应出正电荷,绝缘层和P型衬底界面上感应出负电荷,有可能将漏极D与源极S连接,形成导电沟道,则产生流向漏极D的正向工作电流Id,如下图所示。

(3)、当在栅极G-源极S之间加上足以导通场效应管的电压Vgs(或Ugs)时,绝缘层和栅极G的界面上感应出大量正电荷,绝缘层和P型衬底界面上感应出大量负电荷,而绝缘层和栅极G的界面上感应出的正电荷会吸引绝缘层和P型衬底界面上感应的负电荷,若加大导通场效应管的栅极G-源极S之间电压Vgs(或Ugs),绝缘层和栅极G的界面上感应出的大量正电荷会不断吸引绝缘层和P型衬底界面上感应的大量负电荷,形成一个具有大量负电荷的导电沟道,让从源极S流向漏极D大量带负电荷的自由电子顺利通过,从而产生流向漏极D的正向工作电流Id,如下图所示。

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五、场效应管输出特性曲线(以N沟道增强型场效应管为例)

场效应管输出特性曲线是指栅极G-源极S之间电压Vgs(或Ugs) 为定值时,流向漏极电流Id与漏极D-源极S之间电压Vds(或Uds)的关系曲线,如下图所示。

 

说明:由上图可知,场效应管输出特性可以分为三个区:截止区、恒流区、可变电阻区,分别对这三个区做如下说明。 

(1)、截止区(或夹断区)

当栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)> 栅极G-源极S之间开启电压Ugs(th)(或Vgs(th))时,场效应管开始导通。若栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)< 栅极G-源极S之间开启电压Ugs(th)(或Vgs(th)),场效应管处于截止区,也叫夹断区,靠近横坐标的粉色部分,表示流向漏极D的正向工作电流Id为0,场效应管不能工作。

(2)、恒流区(或饱和区)

当满足栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)≥  栅极G-源极S之间开启电压Ugs(th)(或Vgs(th))时,且漏极D-源极S之间电压Uds(或Vds)≥ 栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)- 栅极G-源极S之间开启电压Ugs(th)(或Vgs(th))时,场效应管进入恒流区,也叫饱和区,横纵坐标中间的绿色部分。流向漏极D的正向工作电流Id不随漏极D-源极S之间电压Uds(或Vds)变化,主要决定于栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)。当场效应管用来做放大电路时,就是工作在恒流区(饱和区),相当于三极管的放大区。

(3)、可变电阻区

当满足栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)> 栅极G-源极S之间开启电压Ugs(th)(或Vgs(th)),且漏极D-源极S之间电压Uds(或Vds)< 栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)- 栅极G-源极S之间开启电压Ugs(th)(或Vgs(th))时,场效应管进入可变电阻区,靠近纵坐标左边的粉色部分。流向漏极D的正向工作电流Id随着漏极D-源极S之间电压Uds(或Vds)的增加而上升,两者基本是线性关系,可以将其看作是一个线性电阻。当栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)不同时,场效应管的电阻阻值就会不同,相当于一个由栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)控制的可变电阻。

(4)、击穿区

靠近恒流区(或饱和区)右边的粉色部分,若漏极D-源极S之间电压Uds(或Vds)不断增大,PN结承受太大的反向电压会被击穿,工作时应该避免让场效应管工作在该区域。

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六、场效应管转移特性曲线(以N沟道增强型场效应管为例)

场效应管转移特性曲线是指漏极D-源极S之间电压Uds(或Vds)为定值时,流向漏极电流Id与栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)的关系曲线,如下图所示。

说明:由上图可知, 当栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)大于4V时,流向漏极电流Id大幅度增加,而当栅极G-源极S之间电压Ugs(或Vgs)到达6V时,流向漏极电流Id达到了最大值。

七、选用场效应管需要考虑的主要参数(以双N沟道增强型WSP9926A场效应管为例)

(1)、栅极G的开启电压VT或栅阈值电压VGS(th)

(2)、栅极G与源极S之间的电压Vgs(或Ugs)或栅源电压VGS 

(3)、漏极D与源极S之间的电压Vds(或Uds)或漏源电压VDS

(4)、漏极D与源极S之间的最大电压BVDSS或漏源击穿电压BVDSS

(5)、栅极G与源极S之间的电流Igs或栅源漏电流IGSS

(6)、漏极D与源极S之间的电流Ids或漏源漏电流IDSS

(7)、输入电阻Rgs(即栅极G与源极S之间的电阻)或栅极G电阻Rg

(8)、导通电阻Rds(即漏极D与源极S之间的电阻)或静态漏源导通电阻RDS(ON)

(9)、正向跨导gfs(指场效应管漏极D与源极S之间的电流Ids或漏源漏电流IDSS变化值与栅极G与源极S之间的电压Vgs(或Ugs)或栅源电压VGS变化值之间的比值)

(10)、低频噪声系数NF

(11)、工作环境温度

八、场效应管电路符号判断(以N沟道或P沟道增强型场效应管与N沟道或P沟道耗尽型场效应管为例

(1)、场效应管N沟道或P沟道区分

采用PN结类比方式可以区分场效应管是N沟道还是P沟道,依据是场效应管元器件图形符号的箭头方向符合PN结工作方向,如下图所示。

(2)、场效应管增强型或耗尽型区分

漏极D、箭头方向和源极S连成一条线属于耗尽型,漏极D、箭头方向和源极S各自分开属于增强型。

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九、场效应管实物判断(以N沟道或P沟道增强型场效应管与N沟道或P沟道耗尽型场效应管为例

 

 

 

十、场效应管的应用电路(以N沟道或P沟道增强型场效应管为例)

由上图发现不管是NMOS驱动LED电路还是PMOS驱动LED电路,都存在一个电阻Rgs,这个电阻Rgs在电路中起到什么作用?解释如下:

原来在MOS管(场效应管)内部结构,栅极G、源极S与漏极D这三个极被一层绝缘层二氧化硅隔离,相当于存在一个可存电或放电的电容器(即寄生电容)。通过下面的电路可以了解到电阻Rgs的作用。

由上图可知:不管是NMOS驱动LED电路还是PMOS驱动LED电路,加入电阻Rgs,可以对电容的电压进行及时释放,避免G极(栅极)在没有控制信号的情况下,产生误操作。 

 

原文地址:https://www.cnblogs.com/AChenWeiqiangA/p/13519931.html